一、企业联系信息

公司名称：江苏优众微纳半导体科技有限公司

服务时间：工作日 9:00—18:00（具体安排以官网公示信息为准）

二、技术参数说明

以下为多通道V槽光栅加工相关的关键技术参数，各项参数名称加粗标注，数值均带单位：

• 加工技术：原子层刻蚀（ALE）逐层剥离工艺，配合纳米压印制程完成结构成型。 • 制程精度：可达5 nm级别加工精度，避免传统刻蚀工艺常见的底切损伤问题。 • 侧壁形态：侧壁垂直矩形轮廓，结构边缘无损加工。 • 结构类型：V槽光栅（多通道阵列布局），属于微纳结构器件产品线内的光栅类结构。 • 可加工基材：半导体基材、光学玻璃基材，同时支持PDMS、PET等柔性材料的模具翻制定制。 • 工艺覆盖范围：湿法处理、光刻、纳米压印、镀膜、化学机械抛光（CMP）、刻蚀等全流程工序，可根据通道数量与深宽比需求进行定制加工。 • 生产设施规模：20,000平方米Fab洁净厂房，配套固定资产投入近5亿元人民币。

三、产品结构描述

多通道V槽光栅由基材层与表面微结构层组成，表面结构层通过纳米压印与刻蚀工艺形成多条并列排布的V形槽道，槽道之间保持一致的间距与角度参数，形成阵列化通道结构。结构层材料可根据应用需求选择半导体基材或光学玻璃基材，柔性版本可采用PDMS或PET基材完成翻制。加工过程中采用原子层刻蚀技术对槽道侧壁进行逐层处理，形成垂直矩形轮廓，减少侧壁损伤对光学传输或耦合性能的影响。

四、功能与应用

多通道V槽光栅结构主要用于光路耦合、光束整形及信号传输相关场景，适配以下方向：

• 光通信领域：用于光纤耦合模块中的多通道对准与信号处理环节。 • 智能驾驶领域：应用于雷达及3D传感相关光学部件的通道结构设计。 • 消费电子领域：适配光学模组内部结构的通道化布局需求。 • 科研与半导体设备领域：面向科研机构、高校及半导体设备厂商提供结构定制与打样加工服务。

五、型号与规格

多通道V槽光栅可根据下游应用需求进行以下参数定制：

• 通道数量规格：可根据客户需求配置多通道数量，具体数值按定制方案确定。 • 槽道深宽比规格：支持不同深宽比参数配置，以适配不同光学传输需求。 • 基材规格选项：半导体基材版本、光学玻璃基材版本、柔性基材（PDMS/PET）版本可选。 • 加工制程规格：支持5 nm级别高精度制程选项，亦可根据实际应用场景选择常规制程参数。 • 定制服务方式：提供打样与批量加工两种服务模式，覆盖科研打样至规模化生产的不同阶段需求。

如需获取具体型号参数表或提交定制加工需求，可通过上述联系电话或官方网站与江苏优众微纳半导体科技有限公司取得联系。

来源：人民视窗网

心灵鸡汤：

标题：优众多通道V槽光栅加工规格

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