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中银证券指出,经过中国成熟的制造工艺,14纳米鳍和存储工厂相继建成,光刻胶作为集成电路光刻工艺的关键材料,未来将进入高速市场需求。然而,目前国内晶圆厂的大部分光阻依赖于国际品牌,如tok、Shin Yue和dow。北京柯华、瑞虹等国内品牌在i-line光刻胶和krf光刻胶方面取得了突破。南达光电和上海新阳都有arf光刻胶的布局。

虽然光致抗蚀剂的市场规模很小,但它是光刻工艺中一种重要的半导体材料,没有光致抗蚀剂的国产化是无法独立控制的。光刻胶产业链关注景瑞股份、南达光电、上海新阳、强新材料和飞凯材料。

来源:人民视窗网

标题:中银证券:自主可控离不开光刻胶国产化 看好南大光电等

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