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近日,北华创自主研发的原子层设备已进入行业内知名客户的生产线,为国内先进制造领域的设备增添了新的人才。

传统的等离子刻蚀设备在进入14纳米以下的技术代和其他低损伤要求的刻蚀领域后,面临着刻蚀损伤、负载效应和控制精度不足等一系列挑战。不同于传统的等离子刻蚀设备,原子层刻蚀设备采用逐层刻蚀技术,通过控制循环次数,可以精确控制刻蚀速率和深度。

北方华创原子层刻蚀设备为高端装备再添新秀

原子层刻蚀设备可广泛用于14nm以下集成电路、硅基半导体器件、iii-v族化合物器件、石墨烯等二维材料器件的制造过程。

来源:人民视窗网

标题:北方华创原子层刻蚀设备为高端装备再添新秀

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